اخبار

پس از گذشت زمان، تحقیقات دقیق تجهیزات و تلاش‌های بی‌وقفه تیم مهندسی فنی، شرکت ما (شنیانگ کجینگ) با موفقیت انواع کوره‌های لوله‌ای را تولید کرده است.

اره تیغه الماسه دستی سی وای جی-210 برای تقاضای بازار طراحی شده و به طور گسترده در کالج‌ها، دانشگاه‌ها و موسسات تحقیقاتی مورد استفاده قرار می‌گیرد. این اره برای برش پرسرعت فلزات، سرامیک، شیشه، نمونه‌های سنگ، نمونه‌های معدنی، بتن و مواد آلی مناسب است.

صمغ‌زدایی: با استفاده از دستگاه پوشش‌دهی اسپری چرخشی وی تی سی-200-4P برای استفاده از فرآیند صمغ‌زدایی مرطوب، حلال آلی روی فیلم مقاوم در برابر نور روی سطح الگو چکانده می‌شود، به طوری که فیلم مقاوم در برابر نور حل شده و برداشته می‌شود و الگویی تمیز باقی می‌ماند. تجهیزات پوشش‌دهی موجود برای پوشش‌دهی شامل دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء وی تی سی-100PA، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء گرمایشی پوشش بالایی وی تی سی-100PA-Ⅰ، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء وی تی سی-100، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء وی تی سی-200، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء وی تی سی-200PV، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی اسپری وی تی سی-200-4P و دستگاه پوشش‌دهی چرخشی ماوراء بنفش وی تی سی-100PA-اشعه ماوراء بنفش است. با توجه به فرآیند خاص، می‌توان از دستگاه‌های پوشش‌دهی چرخشی مختلفی استفاده کرد.

چیلر آزمایشگاهی یک سیستم خنک‌کننده با طراحی ویژه است که برای حفظ دمای ثابت برای تجهیزات یا فرآیندهای آزمایشگاهی استفاده می‌شود. اصل کار، گردش سیال خنک‌کننده (آب، اتیلن گلیکول یا یک مبرد خاص) در یک سیستم حلقه بسته است که در نتیجه گرما را از تجهیزات یا نمونه حذف می‌کند. این فرآیند تضمین می‌کند که دما پایدار و در محدوده مورد نیاز باقی بماند، که برای دقت و قابلیت اطمینان بسیاری از کاربردهای آزمایشگاهی بسیار مهم است.

با توسعه سریع صنعت مدرن، اهمیت این محصول به تدریج آشکار شده است. این تجهیزات همچنین به طور گسترده در صنایعی مانند داروسازی، الکترونیک و علوم مواد مورد استفاده قرار می‌گیرد. این صنایع همچنین نیازهای بالایی برای خشک کردن و پخت مواد حساس دارند. آون خشک‌کن آزمایشگاهی که ما تولید می‌کنیم، به طور کامل نیازهای بالای این صنایع را برآورده می‌کند و می‌تواند به مشتریان در دستیابی به تولید یا آزمایش‌های با کارایی بالا کمک کند.

پیدایش و کاربرد فناوری کندوپاش مراحل بسیاری را طی کرده است. پس از بیش از 30 سال توسعه، فناوری کندوپاش مگنترون به روشی غیرقابل جایگزین برای لایه های نازک نوری، الکتریکی و سایر عملکردها تبدیل شده است. چقدر در مورد آنها می دانید؟

بر اساس کندوپاش مگنترون اساسی، محیط رشد خلاء و دمای بالا معرفی می‌شود و فناوری پلاسما برای بهبود راندمان واکنش رسوب واکنشی ترکیب می‌شود تا اپیتاکسی فیلم کندوپاش مگنترون را تحقق بخشد. فیلم تهیه شده در این شرایط خلاء بالا دارای جهت گیری شبکه ای بهتر و خواص کریستالی برجسته تر است. این طیف گسترده ای از کاربردها در کوانتومی ابررسانا، مواد فروالکتریک، مواد پیزوالکتریک، مواد ترموالکتریک و سایر زمینه ها دارد. حالت خلاء بالا به کاهش نفوذ ناخالصی ها کمک می کند و اطمینان حاصل می کند که ذرات پراکنده شده با گازهای دیگر در طول فرآیند رسوب واکنش نامطلوب نشان نمی دهند.