-
رومیزی اسپین کوتر بدون خلاء
اسپین کوتر VTC -50A سیستم های منبع تغذیه مستقل را برای قسمت موتور و قسمت کنترل اتخاذ می کند و سیستم کنترل سرعت از میکرو کامپیوتر تک تراشه با ضد تداخل بالا برای کنترل استفاده می کند، به طوری که سرعت چرخش در محدوده 1000 بسیار بالا و پایدار است. -8000 دور در دقیقه کوتر در حین کار دارای دو مرحله می باشد که عبارتند از مرحله T1 در زمان سرعت پایین و مرحله T2 در زمان سرعت بالا.
Send Email جزئیات -
روکش چرخشی (8K دور در دقیقه، حداکثر 4 اینچ ویفر) با 3 چاک خلاء
روکش وکیوم اسپین کوتر VTC -100 مجهز به 3 چاک وکیوم (برای استاندارد) در اندازه های مختلف است و چاک های خلاء مختلف را می توان با توجه به اندازه نمونه ها ویرایش کرد. در حین کار، روکش اسپین خلاء VTC -100 از روش جذب صفحه خلاء برای ثابت کردن نمونه بر روی صفحه نمونه استفاده می کند. این تجهیزات از برنامه دو مرحله ای برای کنترل سرعت استفاده می کند.
Send Email جزئیات -
روکش چرخشی جمع و جور (8K دور در دقیقه، حداکثر 4 اینچ ویفر) دور انداختن طراحی کم
روکش وکیوم اسپین کوتر VTC -100B یک نسخه ارتقا یافته از روکش اسپین خلاء VTC -100 است. پوشش بالایی برای باز و بسته شدن تا می شود و مجهز به قفل ایمنی است. در عین حال، عملکرد محافظت از پوشش باز را برای تضمین بهتر ایمنی اپراتور دارد.
Send Email جزئیات -
روکش اسپین چاک خلاء قابل برنامه ریزی (500-6000 دور در دقیقه، حداکثر 8 اینچ)
روکش اسپین خلاء VTC -200 دارای مزایای عملکرد ساده، تمیز کردن راحت و اندازه کوچک است. این عمدتا در فرآیند رشد فیلم در آزمایشگاه های کالج ها و دانشگاه ها و موسسات تحقیقاتی علمی استفاده می شود. در حین کار، روکش چرخشی خلاء VTC -200 از روش جذب صفحه خلاء برای ثابت کردن نمونه بر روی صفحه نمونه استفاده می کند. این تجهیزات از برنامه دو مرحله ای برای کنترل سرعت استفاده می کند.
Send Email جزئیات -
روکش چرخشی با سرعت بالا (10 هزار دور در دقیقه و حداکثر 5 اینچ)
روکش اسپین خلاء VTC -100PA برای فرآیندهای نیمه هادی، کریستال، دیسک نوری، ساخت صفحه و پوشش سطح و غیره مناسب است. می توان از آن برای محلول پوشش اسید قوی و قلیایی قوی استفاده کرد. این تجهیزات مجهز به دو چاک خلاء با اندازه های مختلف (برای استاندارد) مطابق با اندازه نمونه است. این تجهیزات می تواند 12 مجموعه برنامه را ذخیره کند و هر مجموعه شامل 6 مرحله اجرا است.
Send Email جزئیات -
روکش چرخشی با سرعت بالا با پوشش حرارتی 100 درجه سانتیگراد
روکش اسپین خلاء VTC -100PA-I برای فرآیندهای نیمه هادی، کریستال، دیسک نوری، ساخت صفحه و پوشش سطح و غیره مناسب است. می توان از آن برای محلول پوشش اسید قوی و قلیایی قوی استفاده کرد. این تجهیزات مجهز به دو چاک خلاء با اندازه های مختلف (برای استاندارد) مطابق با اندازه نمونه است. این تجهیزات می تواند 12 مجموعه برنامه را ذخیره کند و هر مجموعه شامل 6 مرحله اجرا است.
Send Email جزئیات -
روکش چرخشی پرسرعت با پوشش حرارتی 200 درجه سانتیگراد
روکش اسپین خلاء VTC -100PA-II برای فرآیندهای نیمه هادی، کریستال، دیسک نوری، ساخت صفحه و پوشش سطح و غیره مناسب است. می توان از آن برای محلول پوشش اسید قوی و قلیایی قوی استفاده کرد. این تجهیزات مجهز به دو چاک خلاء با اندازه های مختلف (برای استاندارد) مطابق با اندازه نمونه است. این تجهیزات می تواند 12 مجموعه برنامه را ذخیره کند و هر مجموعه شامل 6 مرحله اجرا است.
Send Email جزئیات -
روکش اسپین با سرعت بالا (10 هزار دور در دقیقه و حداکثر 5 اینچ) با پوشش
روکش اسپین -100PA- برای فرآیندهای نیمه هادی، کریستال، دیسک نوری، ساخت صفحه و پوشش سطح و غیره مناسب است. پوشش بالایی از منبع نور استفاده می کند و به ویژه برای مواد حساس به نور مناسب است که می تواند به سرعت جامد را جامد کند. فیلم پوشش داده شده علاوه بر این، لامپ همچنین دارای عملکرد پلیمریزاسیون است که می تواند مونومر را به یک فیلم پلیمری پلیمریزه کند.
Send Email جزئیات -
روکش چرخشی ضد خوردگی (6K دور در دقیقه و حداکثر 6 اینچ ویفر)
روکش اسپین خلاء VTC -200P برای فرآیندهای نیمه هادی، کریستال، دیسک نوری، ساخت صفحه و پوشش سطح و غیره مناسب است. این تجهیزات می تواند 12 مجموعه برنامه را ذخیره کند و هر مجموعه شامل 6 مرحله اجرا می باشد. پوشش بالایی محفظه می تواند نمونه را گرم کند (عملکرد اختیاری) که برای فرآیند پوشش مواد لایه نازک با ویسکوزیته بالا مفید است.
Send Email جزئیات
