در تحقیقات مواد مدرن و تولید نیمه هادی، تهیه لایه نازک و فناوری پوشش بسیار مهم است. به ویژه در زمینه پوشش لایه نازک با دقت نانومتری، روکش ترموستاتیک درجه نانومتری PTL-NMB به عنوان یک تجهیزات دقیق، به ابزاری مهم در کاربردهای تحقیقاتی و صنعتی تبدیل شده است. این مقاله به طور مفصل نحوه استفاده از کشنده نانومتری PTL-NMB برای پوشش ویفرهای سیلیکونی را معرفی می کند.