اخبار

کاربرد دستگاه لایه نشانی چرخشی در فرآیند لیتوگرافی نوری نیمه هادی

صمغ‌زدایی: با استفاده از دستگاه پوشش‌دهی اسپری چرخشی وی تی سی-200-4P برای استفاده از فرآیند صمغ‌زدایی مرطوب، حلال آلی روی فیلم مقاوم در برابر نور روی سطح الگو چکانده می‌شود، به طوری که فیلم مقاوم در برابر نور حل شده و برداشته می‌شود و الگویی تمیز باقی می‌ماند. تجهیزات پوشش‌دهی موجود برای پوشش‌دهی شامل دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء وی تی سی-100PA، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء گرمایشی پوشش بالایی وی تی سی-100PA-Ⅰ، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء وی تی سی-100، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء وی تی سی-200، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء وی تی سی-200PV، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی اسپری وی تی سی-200-4P و دستگاه پوشش‌دهی چرخشی ماوراء بنفش وی تی سی-100PA-اشعه ماوراء بنفش است. با توجه به فرآیند خاص، می‌توان از دستگاه‌های پوشش‌دهی چرخشی مختلفی استفاده کرد.

ادامه مطلب