اخبار

کاربرد دستگاه لایه نشانی چرخشی در فرآیند لیتوگرافی نوری نیمه هادی

صمغ‌زدایی: با استفاده از دستگاه پوشش‌دهی اسپری چرخشی VTC-200-4P برای استفاده از فرآیند صمغ‌زدایی مرطوب، حلال آلی روی فیلم مقاوم در برابر نور روی سطح الگو چکانده می‌شود، به طوری که فیلم مقاوم در برابر نور حل شده و برداشته می‌شود و الگویی تمیز باقی می‌ماند. تجهیزات پوشش‌دهی موجود برای پوشش‌دهی شامل دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء VTC-100PA، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء گرمایشی پوشش بالایی VTC-100PA-Ⅰ، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء VTC-100، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء VTC-200، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی خلاء VTC-200PV، دستگاه پوشش‌دهی چرخشی اسپری VTC-200-4P و دستگاه پوشش‌دهی چرخشی ماوراء بنفش VTC-100PA-UV است. با توجه به فرآیند خاص، می‌توان از دستگاه‌های پوشش‌دهی چرخشی مختلفی استفاده کرد.

ادامه مطلب